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    爱德华真空泵在半导体刻蚀设备中的应用

    责任编辑:品雅真空设备 发表时间:2023-02-03 浏览:855 次

    1.半导体离子束刻蚀机的组成

    离子束刻蚀机由真空室、工作台、快门、真空抽气系统、供气系统、水冷系统、电源和  电器系统等主要部分组成。该机在正常工作时,首先将真空室的压力抽至2×10-3Pa或更低,再调节Ar气流量,使真空室压力保持  在1×10-2~2×10-2Pa(如需要辅助气体,如O2、CH2等,则可按一定比例与之混合),  然后启动离子源各电源,使离子源正常工作,从离子源引出一定能量和密度的离子束被中和器发射的电子中和后,轰击工件进行溅射刻蚀。工件表面必须预先制备沟槽的掩膜图形。这样裸露部分被刻蚀掉,掩蔽部分被保留下来,从而在工件表面形成所需要的沟槽图形。

    2.真空系统

    真空系统有两套,分别用于预真空室和刻蚀腔体。预真空室由机械泵单独抽真空,只有在预真空室真空度达到设定值时,才能打开隔离门,进行传送片。刻蚀腔体的真空由机械泵和分子泵共同提供,刻蚀腔体反应生成的气体也由真空系统排空。

    离子刻蚀机真空泵-爱德华真空泵(Edwards)

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